EDI超純水制取設(shè)備詳細(xì)說明
高純水設(shè)備簡介: 我公司的高純水設(shè)備是由雙級反滲透裝置+EDI超純水裝置制取的高純水設(shè)備,可以制取出高達(dá)10-18.2MΩ.CM超純水。因此***用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制*行業(yè)和實驗室。也可以作為制*蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用高純水。 一、高純水制取設(shè)備簡介 高(超)純水制取設(shè)備提供生產(chǎn)半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)用超純水系統(tǒng)。產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)比較高可達(dá)18.3兆歐,符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。我公司曾為國內(nèi)外多家**電子工業(yè)廠家及制*企業(yè)制作工業(yè)超純水設(shè)備。 二、高純水制取設(shè)備推薦工藝流程 1、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5?μ?m精密過濾器-用水點 2、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5?μ?m精密過濾器-用水點 三、高(超)純水工藝系統(tǒng)簡述 為滿足用戶需要,達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì),盡可能地減少各級的污染,在工藝設(shè)計上,取達(dá)**自來水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水,再設(shè)有介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、雙級RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、EDI或離子交換混床系統(tǒng)等。 1、介質(zhì)過濾器主要作用是去除源水中的懸浮物質(zhì)及機(jī)械雜質(zhì)設(shè)備由質(zhì)量不銹鋼材料制作而成。體內(nèi)裝有布水帽、精制石英砂等,亦可裝其它填料。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統(tǒng),使系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)更加穩(wěn)定。另外設(shè)備還設(shè)有氣體沖刷功能,能比較大限度地***介質(zhì)上及床層中的污垢,提高出水水質(zhì)和延長工作周期。 2、活性碳過濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機(jī)物雜質(zhì)等作用,能很大程度的去除水中的游離余氯,保證反滲透膜的進(jìn)水水質(zhì),設(shè)備由質(zhì)量不銹鋼材料制成。 3、RO主機(jī)系統(tǒng)引進(jìn)**上**的反滲透技術(shù),利用壓力差原理,能有效地去除水中的鹽類,脫鹽率可達(dá)到99%左右。 4、?EDI(電除鹽系統(tǒng))工作原理 ??????高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要,比如:半導(dǎo)體制造業(yè)和制*業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。 ???????然而,膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。 ??????而且,膜處理過程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多,并不需要酸、堿再生及廢水中和。 ??????EDI處理過程是膜處理過程中增長**快的業(yè)務(wù)之一。EDI是帶有特殊水槽的非反向電滲析(ED),這個水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。 ??????EDI主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。通常水源是由反滲透(RO)產(chǎn)生。 ????? 超純水水質(zhì):水質(zhì)符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn),電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級) 高純水制取設(shè)備應(yīng)用范圍:半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學(xué)試劑;實驗室和中試車間;汽車家電表面拋光處理醫(yī)*行業(yè)用水;其他高科技精微產(chǎn)品。